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金属真空镀膜厂-泰坦金属(在线咨询)-金属真空镀膜

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真空镀膜

光密度法。光密度(od)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位,是一个对数值,通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。 光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。

计算公式为: od=lg入射光/透射光或od=lg1/透光率 通常镀铝膜的光密度值为l~3(即光线透过率为0.10/0~10%),数值越大镀铝层越厚。 光密度od值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。 表6-70d值、方阻值和铝层厚度对照表 光密度 od值 电阻值 ohm/square方阻值 铝层厚度 a 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600




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pvd镀膜膜层厚度 真空镀膜加工

pvd镀膜膜层厚度为微米级,厚度较薄,金属真空镀膜加工,一般为0.3μm?~?5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm?~?1μm?,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。

真空镀膜厂家 表面处理工艺后铝型材的特点

磨砂面料型材:磨砂面铝型材避免了光亮的铝合金型材在建筑装饰中存在环境、条件下会形成光的干扰的缺点,它的表面如锦缎一样细腻柔和,很受市场的---,但现有的磨砂材须克服表面砂粒不均匀,并能看到模纹的不足。





  2.2.7热阴频溅射三极型溅射hotcathodehighfrequencysputtering:借助于热阴极和阳极获得非自持气体放电,金属真空镀膜,气体放电产生的离子,在靶表面负电位的作用下加速而轰击靶的溅射。

  2.2.8离子束溅射ionbeamsputtering:利用特殊的离子源获得的离子束使靶的溅射。

  2.2.9辉光放电清洗glowdischargecleaning:利用辉光放电原理,金属真空镀膜厂,使基片以及膜层表面经受气体放电轰击的清洗过程。

  2.3物理气相沉积;pvdphysicalvapordeition:在真空状态下,镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化,沉积到基片上的一种制取膜层的方法。




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